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影響砂磨機(jī)研磨細(xì)度的因素有哪些

編輯:kefu 發(fā)布時(shí)間:2023-3-20 點(diǎn)擊:658
 

影響砂磨機(jī)研磨細(xì)度因素有很多,主要可以從外在原因和內(nèi)在原因兩個(gè)方面來(lái)說(shuō)。下面就跟小編一起來(lái)詳細(xì)了解一下影響砂磨機(jī)研磨細(xì)度的因素吧。

一、外在原因有分散劑的添加、原料粒徑等原因,這里我們主要講分散劑對(duì)研磨細(xì)度的影響。

在砂磨機(jī)中,物料顆粒的粉碎首先主要是依靠高速運(yùn)動(dòng)的磨珠間的碰撞、擠壓、剪切實(shí)現(xiàn)物料顆粒的粒度變小,比表面積增大。

在粒度逐漸細(xì)化的過(guò)程中,顆粒在范德華力、雙電層靜電作用等影響下會(huì)重新團(tuán)聚。因此,可以認(rèn)為顆粒超細(xì)粉碎到一定程度后,伴隨著一系列顆粒微觀(guān)上理化特性的質(zhì)變,就會(huì)出現(xiàn)一個(gè)“粉碎?團(tuán)聚”的可逆過(guò)程。當(dāng)這正反兩個(gè)過(guò)程的速度相等時(shí),便達(dá)到了粉碎過(guò)程中的動(dòng)態(tài)平衡,則顆粒尺寸達(dá)到極限值。此時(shí),進(jìn)一步延長(zhǎng)粉碎時(shí)間是徒勞的。因?yàn)檫@時(shí)的機(jī)械力已不足以解聚團(tuán)聚體使顆粒進(jìn)一步破碎,只能用于維持粉碎平衡,并有可能造成更多小顆粒團(tuán)聚體,于是,所謂的“逆研磨”、“返粗”現(xiàn)象就會(huì)出現(xiàn)。從某種程度上說(shuō),分散劑的恰當(dāng)選擇是解決“逆研磨”、“返粗”現(xiàn)象唯一的行之有效的途徑。分散劑可以影響顆粒之間的范德華力、雙電層靜電力、溶劑化膜和吸附層的空間斥力諸作用。

所以,超細(xì)研磨過(guò)程中分散劑的選擇是一項(xiàng)復(fù)雜而且難度大的工程,必須綜合考慮方方面面的因素,只有在保證分散劑對(duì)產(chǎn)品性能及體系無(wú)任何影響的情況下,選擇合適的分散劑及其用量,減少超細(xì)研磨漿料中顆粒之間軟團(tuán)聚體,使顆粒在體系中分散穩(wěn)定,砂磨機(jī)的研磨細(xì)度才能實(shí)現(xiàn)。

二、內(nèi)在原因,砂磨機(jī)本身結(jié)構(gòu)及技術(shù)上的設(shè)計(jì)。

砂磨機(jī)作為一種高效節(jié)能的超細(xì)粉碎設(shè)備,最近十幾年來(lái)得到了迅速發(fā)展。但是不同廠(chǎng)家產(chǎn)的設(shè)備各有不同,同一廠(chǎng)家生產(chǎn)的不用型號(hào)的設(shè)備其研磨細(xì)度也是不一樣的。

我們今天就先從研磨介質(zhì)這塊來(lái)講吧。

以涂料色漿研磨工藝為例,研磨介質(zhì)的大小決定了研磨介質(zhì)與色漿的接觸點(diǎn)的多少,粒徑小的研磨介質(zhì)在相同體積下的接觸點(diǎn)越多,理論上的研磨效率越高;但另一方面,在研磨初期顏料粒徑較大時(shí),研磨介質(zhì)粒徑小的沖量較小,達(dá)不到較好的研磨效果;研磨后期,大粒徑的研磨介質(zhì)由于接觸點(diǎn)少,能量密度不足,導(dǎo)致粒徑分布比小尺寸研磨介質(zhì)差,細(xì)度不理想。

以上就是關(guān)于影響砂磨機(jī)研磨細(xì)度的因素的講解,看完大家都知道了嗎,希望對(duì)大家有所幫助。

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